VOLCANO® ラインビームレーザー光学系は、アモルファスシリコン薄膜のような半導体薄膜のアニーリングや結晶化に応用されます。膜厚50nmのアモルファスシリコン薄膜は、LCDやOLEDフラットパネルディスプレイの薄膜トランジスタ（TFT）製造のため重要な役割を果たしています。アモルファスシリコン薄膜はグリーンレーザーによる結晶化で多結晶シリコンに変換され、応答速度の速い高性能なTFTフラットパネルディスプレイになります。UV固体レーザーによる結晶化では結晶粒径や形状がより均一化されることで、さらなる応答速度の向上が得られ、高性能なフラットパネルディスプレイへの応用が可能です。 VOLCANO® ラインビームレーザー光学系は750mmのライン長を形成し、ELA（エキシマレーザーアニール）同等のポリシリコン薄膜 (50-100 cm2/Vs)を作ることができます。これらはOLEDやTFTフラットパネルのプロセスに最適です。VOLCANO® ラインビームレーザー光学系はエネルギー利用率が高く（90%以上）信頼性があり、エキシマレーザーを使ったELAシステムの1/5のランニングコストが可能です。