VOLCANO® ラインビームレーザー光学系は、アモルファスシリコン薄膜のような半導体薄膜のアニーリングや結晶化に応用されます。膜厚50nmのa-Si薄膜は、LCDやOLEDフラットパネルディスプレイの薄膜トランジスタ（TFT）製造のため重要な役割を果たしています。アモルファスシリコン薄膜はグリーンレーザーによる結晶化で多結晶シリコンに変換され、応答速度の速い高性能なTFTフラットパネルディスプレイになります。UV固体レーザーによる結晶化では結晶粒径や形状がより均一化されることでさらなる応答速度の向上が得られ高性能なフラットパネルディスプレイへの応用が可能です。
VOLCANO® ラインビームレーザー光学系は750mmのライン長を形成し、ELA（エキシマレーザーアニーリング）同等のp-Si膜 (50-100 cm2/Vs)を作ることができます。これらはOLEDやTFTフラットパネルのプロセスに最適です。VOLCANO® ラインビームレーザー光学系はエネルギー利用率が高く（90%以上）信頼性があり、エキシマレーザーを使ったELAシステムの1/5のランニングコストが可能です。